江西石墨烯器件及电路芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司的高功率密度热源产品可应用于微系统和微电子领域。随着科技的不断进步和需求的日益增长，微系统和微电子设备的集成度和性能要求也在不断提高。而这些设备由于体积小、功耗大、工作频率高等特点，往往面临严峻的散热挑战。而南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司的高功率密度热源产品恰好可对此提供较好的解决方案。随着科技的进步和需求的增加，相信该产品将在未来发展中发挥越来越重要的作用，为微系统和微电子领域带来更多的可能性和机遇。芯谷高频研究院的CVD用固态微波功率源产品可依据客户要求进行各类微波功率大小和功率频率的设计与开发。江西石墨烯器件及电路芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务，可进行以下先进集成材料制备和研发：1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆，用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器；2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆，用于低损耗光学平台；3)AlGaAs-on-insulator，绝缘体上AlGaAs晶圆，用于光量子器件等新一代片上光源平台；4)Miro-Cavity-SOI，内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆，用于环栅GAA，MEMS等器件平台；5)SionSiC/Diamond，解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈；6)GaNonSiC，解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈；7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。广东光电器件及电路器件及电路芯片设计芯谷高频研究院可进行Si、GaAs、InP、SiC、GaN、石墨烯以及碳纳米管等半导体器件的工艺流片。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司作为一家专注于高频器件领域的科技企业，拥有丰富的研发经验和技术实力，在芯片代加工和流片能力上也具备较强的实力。在芯片代加工与流片方面，芯谷高频公司自主开发了一系列芯片加工工艺，能够满足客户的不同需求，可以根据客户要求进行单步工艺或多步工艺加工，也可以进行不同规格尺寸的试验片加工，可进行太赫兹/微波毫米波芯片、光电芯片等多种材料器件及电路的流片，能够为客户提供优良的代加工服务。公司依托雄厚的技术力量，展现了较强的芯片代加工和流片能力，这为企业提升核心竞争力，促进科技创新和产业升级提供了强有力支撑。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可以对外提供光电芯片测试服务，包括光电集成芯片在片耦合测试、集成微波光子芯片测试等。在光电芯片测试方面，公司经验丰富，设备先进，能够高效准确地完成多种测试任务。对于光电集成芯片在片耦合性能测试和集成微波光子芯片测试，公司都可以提供专业的测试服务。公司拥有先进的测试设备和设施，可以满足多种测试需求。此外，公司拥有一支专业的研发团队，致力于提高测试技术的精度和效率。公司致力于为客户提供高质量的测试服务，助力光电芯片领域的创新发展。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供光电器件及电路技术开发。

    南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备先进的CVD用固态微波功率源技术。CVD技术是一种关键的制备技术，它通过气相反应直接在衬底上生长薄膜，是许多重要材料的制备技术之一。而固态微波功率源则是CVD设备重要组成部分。研究院的固态微波功率源，其技术先进，性能优良，可以广泛应用于化学/物理/电子束气相沉积和磁控溅射等各领域。该技术的应用前景十分广阔。在催化反应、材料制备等领域，CVD已是一种通行的制备技术。该技术的优势不仅在于制备的薄膜质量高，而且操作简单，可实现大规模制备，制备出的薄膜可广泛应用于热电转换器、光学设备、导电薄膜和光伏电池等领域。研究院在CVD用固态微波功率源技术上的研究和应用，将极大地推动该技术的发展并扩大其应用范围。研究院的技术实力，丰富的经验以及创新精神，将为该行业的进一步发展奠定坚实的基础。 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司提供定制化的SBD太赫兹集成电路芯片技术开发服务。贵州化合物半导体器件及电路芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供GaAs太赫兹SBD管芯技术开发服务。江西石墨烯器件及电路芯片流片

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术开发服务，该芯片相对于Si LDMOS，具有工作频率高、功率大、体积小等优势；相对于传统SiC基GaN芯片，具备低成本、高密度集成、大尺寸等优势；适应于C、Ka、W等主流波段的攻放、开关、低噪放等芯片；南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可提供定制化的Si基GaN射频器件和电路芯片研制与代工服务；该芯片可用于5G通信基站、高效能源、汽车雷达、手机终端、人工智能等领域。江西石墨烯器件及电路芯片流片